生产光刻机有哪些上市公司
ASML--荷兰
尼康--日本
佳能--日本
主要的就这三家
对生产线炭黑处理的后道部分进行技术改造，年产规模6万多吨、分阶段进行了试生产、日等少数发达国家在这一领域的垄断地位。公司生产的36-5白炭黑被用于载人飞船获得圆满成功，也是中国500家最大化工企业之一。公司生产的雪珠牌系列白炭黑有二十余个型号,炭黑年生产能力20万吨，主营业务包括主题商场及综合性商业物业开发租赁、美炭黑概念股
龙星化工，其产品质量在国内处于领先地位。硅是地球上储量第二的化学相关信息元素，作为半导体材料，人们对它研究得最多、技术最成熟，而且晶硅性能稳定、无毒，因此成为太阳电池研究开发、生产和应用中的主体材料。但高纯度多晶硅在我国却十分短缺，绝大部分需要依赖进口。 高纯度硅在石英中提取，以单晶硅为例，提炼要经过以下过程：石英砂一冶金级硅一提纯和精炼一沉积多晶硅锭一单晶硅一硅片切割。这样被还原出来的硅的纯度约98-99%，但半导体工业用硅还必须进行高度提纯。单晶硅是制造硅晶圆片的基础材料，多晶硅粗砂是制造单晶硅的基础材料。
原料开采，一般有石英矿的地方都有。硅晶圆片生产出来之后，会送进半导体代工厂进行光刻加工，之后送到封装车间进行切片封装，再送到测试工厂测试，之后，就成了市场上卖的IC产品。高级的像CPU啊，低级的像各种小塑封小集成块啊，都是最终的产品。
目前世界上最大的代工厂是台湾的台积电，中国主要集中在广州、无锡、上海一带，中芯国际是目前中国比较有规模的企业。
如今ASML已经是霸主了，ASML垄断了整个行业107%的利润，因为尼康是亏损的，ASML 的EUV就快出来了，那是尼康就彻底没戏了，至于佳能，比较识时务，2009年就退出高端芯片光刻机市场了，专注于LCD面板曝光机
世界上能做出高端光刻机的国家有哪些
目前世界上最大的光刻机制造商是荷兰ASML；1984年ASML从飞利浦独立出来，专门致力于研发光刻技术，得益于近乎完美的德国机械工艺以及世界顶级光学厂商德国蔡司镜头，再加上美国提供的光源，ASML迅速发展，到如今占到了全球光刻机总销售收入的78%；
而随着ASML的壮大，高端光刻机市场基本被垄断，Intel的晶圆工厂生产成本也日益增加，所以Intel大力扶持日本尼康以平衡ASML，而ASML独步全球的工艺水平和稳定性能最终击败尼康成为高端光刻机的王者，尼康则开始面向低端领域；如今全球最大的晶圆代工厂台积电是ASML最大的股东，三星，Intel也占有ASML的股份，垄断地位已经形成。
拓展资料：
光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。
上海微电子装备的光刻机能达到什么水平？
600系列光刻机——IC前道制造基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。
500系列光刻机——IC后道、MEMS制造
基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用ghi线的高功率汞灯作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及3D-TSV结构等具有良好的自动适应性，并通过采用具有专利的图像智能识别技术，无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。
300系列光刻机——LED/MEMS/Power Devices制造
300系列光刻机面向亚微米2-6英寸晶圆的光刻市场需求，支持亚微米节点条件下的各种半导体光刻制程，特别包括LED图形化蓝宝石衬底生产工艺、LED芯片电极曝光、MEMS和Power Devices生产工艺。
200系列光刻机—AM-OLED显示屏制造
200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为 G2.5(370mm × 470mm)到G5.5(1300mm × 1500mm)的AM-OLED显示屏量产线。
中国哪家的光刻机功能，性能最好？
上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧，估计是中国最先进的了。
SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备。此外，该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术，并配合其他分辨率增强技术，能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
本人亲自用过，号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的。6寸、8寸、12寸都能生产，人际界面良好，效率还算可以，跟国外同类型机器相比故障率稍高。